【摘 要】
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该文较系统地介绍了纳米硅体系的可见和近红外发光,研究了用离子注入法制备的纳米硅的光致发光特性,同时介绍了取得的一些研究结果.采用石英晶体薄片和非晶高纯石英薄片作为
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该文较系统地介绍了纳米硅体系的可见和近红外发光,研究了用离子注入法制备的纳米硅的光致发光特性,同时介绍了取得的一些研究结果.采用石英晶体薄片和非晶高纯石英薄片作为衬底,用高能离子注入机以不同注入剂量和不同注入能量分别把Si<+>注入到衬底中,经过高温退火进行重新结晶后形成纳米硅样品,部分样品又经过氢气钝化处理.纳米硅样品的测量结果表明:在激光照射下,纳米硅样品具有明显的光致发光现象,而且随着激发光强度的增加,PL谱在短波方向的强度增强明显超过长波方向,但波峰的位置与激发光的强度没有什么关系;同时,PL谱在短波方向表现出的饱和趋势要明显低于长波方向的饱和趋势;在325nm激光照射下,纳米硅样品的PL谱有明显的肩状外形;经过氢气钝化处理的样品的PL谱的强度得到明显增强,而对谱的形状几乎没有影响;衬底材料的不同对纳米硅的PL谱没有影响.
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