【摘 要】
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本文以TEOS、SnCl2·2H2O和SbCl3为原料,采用溶胶-凝胶结合旋转涂膜技术在玻璃基底上制备出SiO2增透膜、SnO2:Sb (ATO)透明导电薄膜以及SnO2:Sb/SiO2复合薄膜,利用TG-DSC、XR
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本文以TEOS、SnCl2·2H2O和SbCl3为原料,采用溶胶-凝胶结合旋转涂膜技术在玻璃基底上制备出SiO2增透膜、SnO2:Sb (ATO)透明导电薄膜以及SnO2:Sb/SiO2复合薄膜,利用TG-DSC、XRD、FTIR、SEM、四探针电阻仪、分光光度计、椭偏仪等技术对薄膜样品进行了表征。结果表明,所制备的SiO2薄膜具有较大的孔隙率(p=27%)和较低的折射率(n=1.352),在玻璃基底上镀一层SiO2膜后,峰值透过率由90%提高到95%,达到了较好的增透效果,进一步提高了可见光利用率。所制备的SnO2:Sb薄膜具有较高的折射率(n=1.91)和良好的导电性,方块电阻最低为105Ω/□,能够降低红外辐射,在玻璃上镀SnO2:Sb膜后,近红外波段透过率下降显著,由90%降到5.5%。优化工艺条件下制备的SnO2:Sb/SiO2复合薄膜的性能优于SnO2:Sb薄膜,在相同情况下SnO2:Sb/SiO2复合薄膜对可见光的透过率大于SnO2:Sb薄膜,这是因为上层SiO2薄膜折射率较低,与底层高折射率SnO2:Sb薄膜共同构成减反射膜系,提高了膜系的可见光透过率。相比于单层SnO2:Sb膜,在可见光部分增透率大于4.5%,近红外波段的增透率小于1.0%,基本保持原有导电膜的低红外辐射特性,并提高了可见光透过率。
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