直流磁控溅射生长氮化铁薄膜的研究

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该实验用直流磁控溅射在硅酸钠玻璃衬底上制备Fe-N薄膜,在固定其它参数的同时,改变氮气流量,使氮气流量占总流量的比值分别改变为60﹪、50﹪、30﹪、10﹪、5﹪、0,制备了一系列Fe-N薄膜.对所得样品通过X射线衍射、低角散射、非对称衍射、光电子能谱分析仪、原子力显微镜和SQUIDS设备对薄膜的结构、成分、表面形貌及磁性性能进行了表征.此外,采用Family的动力学标度方法,定量运用标度指数描述了Fe-N薄膜微观动力学生长机制.
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