【摘 要】
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采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法在Pt电极和SrRuO_3电极上均成功制备了Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3薄膜、BiFe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜,采用磁控溅射法(Magnetron Sputtering)在薄膜上掩膜生长了Pt或SrRuO_3上电极,构架了铁性薄膜电容器。利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、铁电测试仪(Precision LC U
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采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法在Pt电极和SrRuO_3电极上均成功制备了Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3薄膜、BiFe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜,采用磁控溅射法(Magnetron Sputtering)在薄膜上掩膜生长了Pt或SrRuO_3上电极,构架了铁性薄膜电容器。利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、铁电测试仪(Precision LC Unit)、LCR表等对薄膜样品的结构、表面形貌、铁电性以及介电性等进行了研究。采用射频磁控溅射
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