掺杂改性的二氧化铱催化析氧反应活性的密度泛函理论研究

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本文中,使用密度泛函理论方法研究了一系列M(M=Ti,Cr, Mn,Ru,Rh,Pt,Sn,Pb)掺杂的IrO2材料催化析氧反应(OER)的活性,以期望寻找到具有高OER活性的掺杂IrO2材料。热力学计算结果表明,在这些M掺杂的IrO2材料中,Ti离子通过替换Ir掺入IrO2是最容易的,而Ir0.5Pt0.5O2固溶体的形成是最困难的。在OER发生时,纯相和M掺杂的IrO2(110)表面容易被O覆盖。在这些被O覆盖的表面上,水分子解离形成吸附的HOO过程是自由能最大的OER反应的第三个基本步。这一步决定了理论过电位的大小。IrO2的理论过电位为0.61V(vs.SHE)。Ti,Mn,Rh,Pt或Sn掺杂的IrO2的理论过电位高于0.61V(vs.SHE); Cr, Ru或Pb掺杂的IrO2的理论过电位低于0.61V(vs.SHE)。此外,我们使用密度泛函理论计算方法,结合实验的表征结果,研究了K掺杂的IrO2材料和Cu掺杂的IrO2材料的OER反应。对于Kx≈0.25IrO2材料,K的掺杂使(112)面最优先暴露同时也使得Ir-5d轨道电子增多。在OER发生时,(112)晶面容易被O覆盖。在O覆盖的(112)面上,形成吸附的HOO过程为电压控制步。这一步决定的OER理论过电位为0.50V(vs.SHE)。对于Ir0.9Cu0.1Oδ和Ir0.7Cu0.3Oδ体系,它们的(001)表面在OER发生时也是被O覆盖的。HOO物种的生成为Ir0.9Cu0.1Oδ和Ir0.7Cu0.3Oδ体系OER反应的电压控制步,其决定的OER理论过电位小于0.61V(vs.SHE)。
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