【摘 要】
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在真空度为133.3μPa时,用真空气相沉积方法在玻璃衬底上沉积SnO薄膜.为了改善性能,掺入In、Cd、Bi、Ag等杂质,并在空气、氧气等气氛中和不同温度下对薄膜进行热处理.通过椭圆偏振仪、XRD、SEM、分光光度计等测试分析,分别研究了不同杂质掺杂及热处理前后的SnO薄膜的结构、晶粒尺寸、电学和光学特性以及不同工艺条件(I=110,120,130A,T=2,4,8,10min)_对薄膜性能的影
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在真空度为133.3μPa时,用真空气相沉积方法在玻璃衬底上沉积SnO<,2>薄膜.为了改善性能,掺入In、Cd、Bi、Ag等杂质,并在空气、氧气等气氛中和不同温度下对薄膜进行热处理.通过椭圆偏振仪、XRD、SEM、分光光度计等测试分析,分别研究了不同杂质掺杂及热处理前后的SnO<,2>薄膜的结构、晶粒尺寸、电学和光学特性以及不同工艺条件(I=110,120,130A,T=2,4,8,10min)_对薄膜性能的影响.结果表明,掺In、Cd、Bi、Ag有效地抑制了晶粒生长,提高了薄膜的稳定性.掺Bi后,薄膜的电学特性增强,而择In、Cd则影响不大.掺Cd的薄膜光学特性最好.在乙醇、四氯化碳、丙酮等气体中测试SnO<,2>薄膜透光特性,在乙醇气体中有较好的气敏光学特性.
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