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三烯丙基异氰脲酸酯(TAlC)是一种含芳杂环的多功能烯烃单体，广泛用于多种热塑塑料、离子交换树脂、特种橡胶的改性剂、交联剂和助硫化剂等，及光固化涂料、光敏抗蚀剂、阻燃剂等的中间体，是一种用途极其广泛的精细化工产品。以氰酸盐和氯丙稀为原料，在氯化亚铜等催化剂的作用下通过合成反应制备TAlC是目前主流的TAlC生产工艺。该工艺生产过程中排放的TAlC生产废水污染物浓度高并含有较高的盐分，而且由于TAIC性质稳定，难以生化降解，是一种典型的高盐难降解废水。 本文以典型的难降解有机物TAlC为目标物质，研究了介质阻挡放电去除TAlC过程中各种影响因素的变化和降解机理。实验结果表明，介质阻挡放电对于TAlC有着较好的去除效果，放电45min后，TAlC去除率可以达到83.1％，同时研究了电源输出功率、TAIC初始浓度、pH、电导率以及放电间距对TAIC去除率的影响。实验还考察了Fe2+、TiO2和碳酸盐对TAlC去除率的影响，结果表明Fe2+和TiO2的加入可以有效提高TAIC的去除率，而碳酸盐的存在会抑制放电等离子体对于TAlC的去除。但是介质阻挡放电等离子体对于TOC的去除率只有TAIC去除率的55％，Fe2+可以提高TOC的去除率，酸性和碱性环境都会抑制TOC的彻底矿化。羟基自由基清除剂和氢自由基清除剂都会降低放电过程中TAlC的去除率。通过Uv-vis光谱和和Gaussian软件分析了TAlC的降解过程;利用GC-MS识别除了两种TAlC降解过程中的中间产物，对TAlC的降解过程进行了推断。