化学气相沉积法制备ZnO薄膜及性能研究

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本文以ZnO薄膜的实际应用为侧重点,从降低设备成本出发,利用在高温管式炉中进行的化学气相沉积(CVD)法和本实验室自行设计合成的固态源(ZnxOyCzHi)在玻璃和Si衬底上制备出了a~b取向的ZnO薄膜,主要对ZnO薄膜的生长方式、结构以及光学性质等方面进行了研究,在条件成熟的情况下还探索了P型ZnO薄膜的制备。具体内容如下:1.对ZnO薄膜制备过程中的各因素对薄膜质量的影响进行了分步研究,并运用了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对ZnO薄膜样品的生长方式和表
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