【摘 要】
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TiO2以优异的光学透过率、高折射率、高介电常数、化学稳定性、较好的附着力和寿命以及光催化性能等,被应用于环保和建筑等领域。然而TiO2的禁带宽度限制了其光谱响应范围在紫外光区,并且在红外光区的反射率较低,达不到低辐射节能的需求。本文在研究TiO2薄膜及其它单层薄膜光学性能的基础上,设计并用磁控溅射法成功制备了TiN/Ag/Cu2O/TiO2复合膜。采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)
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TiO2以优异的光学透过率、高折射率、高介电常数、化学稳定性、较好的附着力和寿命以及光催化性能等,被应用于环保和建筑等领域。然而TiO2的禁带宽度限制了其光谱响应范围在紫外光区,并且在红外光区的反射率较低,达不到低辐射节能的需求。本文在研究TiO2薄膜及其它单层薄膜光学性能的基础上,设计并用磁控溅射法成功制备了TiN/Ag/Cu2O/TiO2复合膜。采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见-近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计、Essential Mac Leod软件和椭圆偏振光谱仪(SE)对薄膜的晶体结构和光学性能进行表征,研究内容具体如下:(1)研究了溅射时间对TiO2薄膜晶体结构和光学性能的影响。结果表明,所制备的TiO2薄膜都为锐钛矿型,随着溅射时间的增大,薄膜的结晶度提高,形成以(101)晶面择优生长的锐钛矿型TiO2薄膜。薄膜的厚度随着溅射时间的增大而变大,计算出在此条件下的平均沉积速率为2.133nm/min。随着溅射时间的增大,对人眼最敏感的550 nm波段的透射率从85.7%下降到70.5%,在近红外光的范围内反射率有所提高,薄膜的禁带宽度也从3.66e V减小到3.53e V,光催化效率从8.5%提高到12.7%。(2)研究了溅射时间对TiN薄膜晶体结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射时间的增大,薄膜的结晶度提高,形成以(200)晶面择优生长的TiN薄膜。SE测试表明,随着溅射时间的增大,薄膜的厚度越来越大,从而计算出在此条件下的平均沉积速率为7.650nm/min。随着溅射时间的增大,550 nm波段的透射率从68.3%下降到18.7%,在近红外光的范围内具有较高的反射率并随溅射时间增大而增大。红外发射率分别为0.494(=2.5μm)和0.156(=25μm),表现出较好的低辐射性能。(3)通过控制溅射时间来研究Ag薄膜和Cu2O薄膜的晶体结构和光学性能。结果表明,随着溅射时间的增加,薄膜的结晶度提高,厚度增大,可见光区的透射率有所下降,近红外光区的反射率有所上升,并且计算了Ag薄膜和Cu2O薄膜的沉积速率分别为17.278nm/min和0.749nm/min。(4)在此基础上,成功制备了TiN/Ag/Cu2O/TiO2复合膜,主要研究了其光学性能,重点分析了复合膜的光催化机理。分析表明,光学综合性能最优的复合膜在人眼最敏感的550nm处的透射率达到了66.6%,近红外区域的反射率约为50%;复合膜中Cu2O与TiO2之间形成p-N异质结,对比TiO2薄膜的禁带宽度显著减小,将TiO2薄膜的光谱响应范围由紫外光区扩大到可见光区,光催化效率显著提高,同时TiN和Ag提供一定的选择透过和低辐射性能,说明通过设计多层复合薄膜来改善TiO2薄膜的光学性能是有前景的。
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