核瓷打磨对二硅酸锂与氧化锆陶瓷双层瓷系统失效行为的影响

来源 :第九次全国口腔材料学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:coldcoffee
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研究核瓷打磨对二硅酸锂玻璃陶瓷及氧化锆陶瓷双层结构在两种加载模式下断裂失效行为的影响.制作二硅酸锂玻璃陶瓷(IPS e.max Press)及氧化锆(Katana)核瓷盘状试件各160个,常规喷砂处理后(组A)随机分配至4组,分别使用80目(组B)、120目(组C)及220目(组D)金刚砂磨盘打磨饰-核瓷界面区域以模拟不同粗度金刚砂车针调改效果.3D表面形貌仪测量处理后核瓷表面平均及最大粗糙度值,扫描电子显微镜(SEM)观察形貌特征.模拟饰瓷烧结过程后重新测量核瓷界面处粗糙度值,使用Kruskal-Wallis及Dennett T3比较烧结前后及各组间粗糙度值差异.结果显示,技师对二硅酸铿玻璃陶瓷及氧化错核瓷的打磨虽然改变了饰一核瓷界面的形貌特征,但对双层结构的断裂强度、可靠性及失效模式无影响。固定桥连接体及桥体跟端较He面对应力更加敏感,更易成为裂纹源导致修复体断裂失效。
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