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原位椭圆偏振光谱法研究多孔阳极氧化铝膜生长过程
原位椭圆偏振光谱法研究多孔阳极氧化铝膜生长过程
来源 :第十四次全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huahuaaixue
【摘 要】
:
椭圆偏振光谱法是一种高灵敏度、非破坏性的原位光谱电化学研究方法。本文采用原位椭圆偏振光谱法研究了多孔阳极氧化铝膜生长过程中膜层的厚度、组成随氧化时间的变化,其结果
【作 者】
:
张李娜
雷惊雷
李凌杰
谢昭明
张胜涛
【机 构】
:
重庆大学化学化工学院,重庆,400044
【出 处】
:
第十四次全国电化学会议
【发表日期】
:
2007年11期
【关键词】
:
多孔阳极氧化铝膜
膜生长
椭圆偏振光谱法
纳米材料模板
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椭圆偏振光谱法是一种高灵敏度、非破坏性的原位光谱电化学研究方法。本文采用原位椭圆偏振光谱法研究了多孔阳极氧化铝膜生长过程中膜层的厚度、组成随氧化时间的变化,其结果可用于推测多孔铝阳极氧化铝膜的生长机制,进而为设计、制造新型纳米材料模板奠定基础。
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