【摘 要】
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在密闭过滤系统,大多由滤速之衰减判定结垢阻力,但结垢变化是连续的,且所监测之滤速常是滤板整体的行为,无法获知滤机内局部之结垢现象,如何于过滤程序中即时监控局部结垢是
【出 处】
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全国第十二届非均相分离学术交流会暨2015厦门台湾两地过滤与分离技术交流大会
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在密闭过滤系统,大多由滤速之衰减判定结垢阻力,但结垢变化是连续的,且所监测之滤速常是滤板整体的行为,无法获知滤机内局部之结垢现象,如何于过滤程序中即时监控局部结垢是极重要之课题.本研究以理论及实验分析恒压与恒滤速滤饼过滤操作下之滤饼厚度与流线电位变化值之关系.于dead-end滤饼过滤实验中,选用之0.1μm MCE及0.1μm PC两种不同薄膜滤材,其孔径远小于悬浮液之粒子粒径,以确认结垢仅来自膜面滤饼,而可忽略膜内部之结垢.结果显示,当恒压滤饼过滤之操作,过滤初期,流线电位变化值随滤饼厚度上升而增加,但当滤饼厚度堆积至一定程度后,流线电位之变化渐缓.而于恒滤速滤饼过滤,流线电位值随滤饼厚度成长而增大,于过滤初期理论模拟与实验结果有较明显差异,但过滤后期滤饼量增多,且滤速稳定,实验结果与学理预估相近.
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