SiO<,2>中Na及Si中B的SIMS分析

来源 :1998二次离子质谱学国际研讨会暨第二届全国二次离子质谱学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:iuxiaolove
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该工作用测量基区薄层电阻(B离子注入后经再分布)的陪片样品,用扩展电阻测试仪测量片中载流子浓度(此处即为B杂质浓度)随深度的变化,将该陪片的邻近区域用SIMS测量B离子随深度的变化及Si离子计数。将不同深度处SIMS测出的B离子与Si离子计数比相对于B杂质浓度作图,得一条直线。该直线斜率即为SIMS测量Si中B杂质的定标常数。用三块样品所得定标常数的相对误差约为30℅。
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