【摘 要】
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采用周期半导体激光为加热源,连续半导体激光为探测光,光学显微镜物镜聚光,应用稳态的光热反射探测技术得到相应于表面温度响应的周期光反射信号,测量了沉积在Si衬底上98nm,1
【机 构】
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中国科学院工程热物理研究所,北京,100080
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采用周期半导体激光为加热源,连续半导体激光为探测光,光学显微镜物镜聚光,应用稳态的光热反射探测技术得到相应于表面温度响应的周期光反射信号,测量了沉积在Si衬底上98nm,148nm,322nm厚的SiO2薄膜的导热系数。运用传输线理论求解多层热传导问题,模拟退火算法求解多层热传导的反问题,得出SiO2薄膜的导热系数和Al/SiO2的界面热阻,结论表明纳米SiO2薄膜的导热系数小于体参数并且和厚度有关,Al/SiO2的界面热阻和SiO2薄膜的内部热阻相当。
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