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会议论文
钝化多孔硅温度行为的研究
钝化多孔硅温度行为的研究
来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ivsou
【摘 要】
:
本文报道选用含有胺基的正丁胺作碳源,采用射频辉光放电法制备碳膜钝化多孔硅的结果,主要研究钝化多孔硅经存放后荧光谱随温度的变化规律,并测量了整个钝化多孔硅及多孔硅层
【作 者】
:
李宏建
彭景翠
瞿述
许雪梅
陈小华
夏辉
罗小华
【机 构】
:
湖南大学应用物理系(长沙)
【出 处】
:
第四届中国功能材料及其应用学术会议
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
钝化多孔硅
射频辉光放电
温度特性
变化规律
荧光谱
碳源
碳膜
实验
解释
法制
丁胺
电阻
测量
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本文报道选用含有胺基的正丁胺作碳源,采用射频辉光放电法制备碳膜钝化多孔硅的结果,主要研究钝化多孔硅经存放后荧光谱随温度的变化规律,并测量了整个钝化多孔硅及多孔硅层的电阻-温度特性,对其实验结果给出了较好的解释.
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