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A Theoretical Search for the Dominant Reaction Pathway of HfO2 Films by Atomic Layer Deposition Duri

来源 :第十一届全国计算(机)化学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jinzhan2090

【作 者】

：

Jie Ren Zicheng Guo Guangfen Zhou 

【机 构】

：

College of Science, Hebei University of Science and Technology, Shijiazhuang, 050018

【出 处】

：

第十一届全国计算(机)化学学术会议

【发表日期】

：

2011年3期

【关键词】

：

Density Functional Theory Thin Film Hafnium Oxide Atomic Layer Deposition 

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