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器壁硅化对电子速率分布的影响
器壁硅化对电子速率分布的影响
来源 :中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cloudwindbase
【摘 要】
:
该文叙述HL-IM托卡马克器壁经硅化后在欧姆加热和低杂波电流驱动(LHCD)条件下。软调射线能谱、电子速率分布和电子温度变化的特点,以及用碘化汞(HgI2半导体探测器和碘化钠探测器
【作 者】
:
杨进府
张炜府
【机 构】
:
业西南物理研究院
【出 处】
:
中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会
【发表日期】
:
1998年7期
【关键词】
:
器壁硅化
软X射线能谱
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该文叙述HL-IM托卡马克器壁经硅化后在欧姆加热和低杂波电流驱动(LHCD)条件下。软调射线能谱、电子速率分布和电子温度变化的特点,以及用碘化汞(HgI2半导体探测器和碘化钠探测器侧出的X射线辐射强库的变化与LHCD能量沉积的关系,
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