电场极化掺杂型NLO聚合物电光活性稳定性的实验研究

• 作 者: 王希军 麻洪 刘森 景遐斌 曹健林 Alex K-Y.Jen 王佛松
• 机 构: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所(长春);中国科学院长春应用化学研究所(长春) Depart
• 出 处: 2000年中国博士后学术大会
• 发表日期: 2000年11期
• 关键词: 电场极化 NLO聚合物 电光活性

测量并给出掺杂型NLO聚酰亚胺材料体系的高分子材料的r<,33>系数衰减曲线,唯象引入双指数衰减模型的常数项,据此模型得到新的拟合曲线.提出了永久r<,33>(∞)系数和稳定性比ζ=r<,33>(0)参数描述及物理依据.结合1300nm和1550nm波长测量实验,初步分析讨论实验观察到的EO系数随时间衰减现象.