论文部分内容阅读
在外延薄膜的生长过程中,应力释放对薄膜的结构和形貌起着至关重要的作用.探索应力释放的特点和规律,有利于更好地控制外延薄膜的质量.截止到目前,也已发现的应力释放机制有,表面重构,台阶捆绑,小面化,及失配位错等.
红荧烯薄膜中的应力释放机制:质量密度波
【摘 要】
：
在外延薄膜的生长过程中,应力释放对薄膜的结构和形貌起着至关重要的作用.探索应力释放的特点和规律,有利于更好地控制外延薄膜的质量.截止到目前,也已发现的应力释放机制有,表面重构,台阶捆绑,小面化,及失配位错等.
【机 构】
：
西南大学物理科学与技术学院,重庆 400715 中科院物理研究所表面物理国家重点实验室,北京100
【出 处】
：
中国物理学会2011年秋季学术会议
【发表日期】
：
2011年9期
其他文献
Physical Properties of Nano-HAs/ZrO2 Coating on Surface of Titanium Materials Used in Dental-implant
Interface structures and current-voltage characteristics of the nanocontacts formed between Er silic
会议
众所周知,沉积在Si(111)表面的纳米Pb 岛具有显著的量子尺寸效应.我们利用低温STM 研究了有机半导体红荧烯分子在铅岛上的吸附和生长,以及半金属Bi 薄膜的生长.
会议