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利用贵金属纳米粒子催化刻蚀技术制备了硅表面减反射陷光结构.为避免有机溶剂的毒性,先采用热次氯酸钠溶液氧化表面油污等污染物,再利用氢氟酸去除,得到清洁的硅表面.同时,为了减小工艺复杂性、避免对复杂设备的要求,采用简单的银镜反应制备了均匀的贵金属Ag纳米粒子.银镜反应过程中,硝酸银浓度控制在1％-2％,氨水浓度采用2％,银氨的PH值在8-9之间.银镜反应镀覆了银纳米粒子,再配合碱性腐蚀液或酸性腐蚀液,获得了不同取向单晶硅片的表面陷光结构.采用本方法制备出的硅表面陷光结构,在380nm到780nm的可见光波段发射率降到了5％的水平.而且,对腐蚀后的(100)硅片进行测试,表面接触角达到110度,具有了较好的超疏水性能.