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【摘 要】
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简述了氧离子注入机高温靶室中对晶片温度的要求，介绍了高温靶室的结构，加热及控温方式，通过建立热平稳模型，分析了高温靶室中的温度特性。
【机 构】
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产业部电子第48研究所(长沙)
【出 处】
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第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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1999年期
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