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等离子体聚合技术，是一种新颖的薄膜制作技术。用等离子体聚合的有机硅薄膜常有较高的透明度和较好的耐化学性和耐磨性。该文对六甲基二硅胺烷的等离子体聚合条件进行了探索，并对膜的光学、化学和力学性能进行了测量和讨论。（本刊录）
透明有机硅（HMDSN）的等离子体聚合及其光学性质
【摘 要】
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等离子体聚合技术，是一种新颖的薄膜制作技术。用等离子体聚合的有机硅薄膜常有较高的透明度和较好的耐化学性和耐磨性。该文对六甲基二硅胺烷的等离子体聚合条件进行了探索，并
【机 构】
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同济大学
【出 处】
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第五届全国光学薄膜学术交流会
【发表日期】
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1988年期
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