【摘 要】
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应用MEMS微加工技术，在基底材料上用标准的光刻工艺制作出微通道结构。以显影后的SU-8胶层作模具，采用软印加工制作了高深宽比PDMS微通道结构，经过等离子表面氧化改性实现了PDMS
【机 构】
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西安交通大学精密工程研究所西安710049
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应用MEMS微加工技术，在基底材料上用标准的光刻工艺制作出微通道结构。以显影后的SU-8胶层作模具，采用软印加工制作了高深宽比PDMS微通道结构，经过等离子表面氧化改性实现了PDMS芯片的不可逆封装。利用流动注射化学发光分析系统，通过用鲁米诺发光剂检测标准浓度的过氧化苯甲酰BPO，验证了化学发光芯片的检测性能，并对测试结果进行了分析。
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