【摘 要】
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采用软磁性Fe-Si合金颗粒以及弱抗磁性Si颗粒在稳恒磁场下采用复合电沉积法制备Fe-Si镀层,考察了磁感应强度(B)、磁场与电流(J)方向以及电极排布方式对不同颗粒在电镀过程的
【机 构】
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上海现代冶金与材料制备重点实验室,上海大学,上海,200072
【出 处】
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第二届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议
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采用软磁性Fe-Si合金颗粒以及弱抗磁性Si颗粒在稳恒磁场下采用复合电沉积法制备Fe-Si镀层,考察了磁感应强度(B)、磁场与电流(J)方向以及电极排布方式对不同颗粒在电镀过程的迁移行为的影响.研究结果表明,当采用水平电极平行磁场电镀时(B||J),由于微观MHD效应以及梯度磁场力的作用,Fe-Si颗粒在镀层表面迁移聚集逐渐形成"圆丘状"突出物,而且随着Fe-Si颗粒自身硅含量的升高,"圆丘状"突出物半径显著降低;同时,由于微观MHD效应造成的溶液扰动,影响了颗粒进入镀层,导致镀层硅含量随着磁场强度的升高而下降.采用垂直磁场竖直电极电镀时(B⊥J),在宏观MHD效应以及梯度磁场力的作用下Fe-Si颗粒在镀层表面出现沿着MHD流动方向排列的"条纹状"突出物,而这一现象对纯Si颗粒并不明显.
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