高效的六芳基双咪唑光引发剂及其在光致抗蚀干膜中的应用

• 作 者: 王宝湖[1]曹万荣[2]申屠宝卿[3]
• 机 构: 浙江大学，化学工程联合国家重点实验室，杭州 310027 浙江荣泰科技企业有限公司，嘉兴 314007
• 出 处: 2011第十二届中国辐射固化年会
• 发表日期: 2011年期

研究了BCIM、TCTM、TCDM、B1-HABI和B2-HABI五种六芳基双咪唑化合物的紫外吸收性能，B1-HABI在365nm的摩尔消光系数为10540,比SBCIM和TCTM分别高38倍和28.5％，在405nm的摩尔消光系数为2712，比TCTM高3.5倍。采用BCIM+EMK、TCTM、TCDM、B1-HABI和B2-HABI制作了光致抗蚀干膜，365nm曝光，B2-HABI和B1-HABI感光度最高;405nm曝光，B1-HABI的感光度最高。B1-HABI和B2-HABI是引发效率最高的光引发剂，在光致抗蚀剂以及紫激光CTP制版等领域有广阔应用前景。