ICP-MS法测定半导体级HNO3中的痕量杂质

来源 :第七届全国青年分析测试学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：oldearth

【摘要】

：

本文用HP ICP-MS 4500型电感耦合等离子质谱仪,采用冷等离子体方法,用屏蔽炬成功分析了高纯HNO3中包括Fe在内的10多种痕量金属杂质,最低可检测1ppt的钠离子,测定的相对标准偏差(RSD)小于6％,加标回收率为87.1％～100.7％,获得好的结果,方法准确、稳定,且操作简便、快速.

【作者】

：

叶松芳

【机构】

：

北京有研半导体材料股份有限公司,100088

【出处】

：

第七届全国青年分析测试学术报告会

【发表日期】

：

2002年3期

【关键词】

：

电感耦合等离子质谱仪痕量杂质冷等离子体半导体分析

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