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二次中性粒子质谱(Secondary Neutral mass spectrometry,SNMS)是在二次离子质谱(Secondary Ion mass spectrometry,SIMS)基础上发展起来的用于分析表面化学组成的一种质谱方法.SNMS和SIMS都是利用初级离子束入射样品表面,通过分析溅射产生的二次粒子而获取材料表面化学组成,不同之处在于前者测量的是产生的中性粒子,而后者测量的是产生的荷电粒子.和SIMS不同的的是，SNMS检测的是脱离基体表面的自由中性粒子，与直接产生的二次离子不同，己不受基体表面的影响，电离过程和粒子发射过程完全分离，因此更容易实现定量；同样的原因，导体、绝缘体、生物分子、半导体材料、薄膜、陶瓷等均可以用SNMS分析。SNMS技术的核心就是后电离技术(Post ionization)。采用恰当的后电离技术可以有效提高检测灵敏度。目前用于SNMS中后电离技术主要有“电子气(e-gas)”，“电子束(e-beam)”、“激光束”等几种电离方法。前两种方法是目前SNMS中使用较为广泛的后电离方法，但是电离效率均远小于1％。利用光电离方法具有较高的电离效率，并且对溅射产物影响最小，有助于提高定量分析的准确度。目前利用光作为离子溅射产物的后电离手段主要有(1)飞秒强激光；(2)真空紫外(VUV)；(3)同步辐射。