【摘 要】
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通过XRD和SEM分析了两种工艺制备的CeO抛光粉抛光性能存在差异的原因和抛光粉在抛光过程中的晶形变化.抛光性能与抛光粉的颗粒形状有关,晶面完整性越好,棱角越清晰,其抛光效
【机 构】
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武汉工业大学材料复合新技术国家实验室(湖北武汉)
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通过XRD和SEM分析了两种工艺制备的CeO<,2>抛光粉抛光性能存在差异的原因和抛光粉在抛光过程中的晶形变化.抛光性能与抛光粉的颗粒形状有关,晶面完整性越好,棱角越清晰,其抛光效率越高,使用寿命越长.CeO<,2>抛光粉在使用过程中,其刃口逐渐变钝,颗粒表面明显被抛光液浸蚀,形成了许多微小的空洞,并有颗粒破碎现象发生.
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