O.1BiFeO3-O.9SrBi2Nb2O9薄膜的三阶非线性光学性质的研究

• 作 者: 徐利 顾豪爽 王忠太 陈侃松
• 机 构: 湖北大学,压电铁电材料与器件湖北省重点实验室,物理学与电子技术学院,湖北,武汉,430062
• 出 处: 2006年全国功能材料学术年会
• 发表日期: 2006年期
• 关键词: 薄膜 三阶非线性光学性质 三阶非线性极化率 表面形貌 择优取向 双面抛光 石英基片 扫描技术 结晶性能 方法 结晶度 单光束 粗糙度 表征

采用PLD方法在双面抛光的石英基片上制备出均匀透明的0.1BiFeO3-0.9SrBi2Nb2O9薄膜,用XRD方法测得了薄膜的结晶性能.该薄膜呈(115)择优取向;用AFM表征了薄膜的表面形貌,结果表明薄膜结晶度良好,表面比较光滑,其表面方均根粗糙度为4.506nm(2μm×2μm).用单光束Z扫描技术测得了该薄膜的三阶非线性光学性质,其三阶非线性极化率的实部R(3)ex=3.78×10-9esu,虚部I(2)ex=1.02×10-9esu。