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热解碳研究
【机 构】
：
清华大学核能技术研究所
【出 处】
：
中国金属学会第一届中国材料科学研讨会
【发表日期】
：
1986年期
其他文献
一、序言 七十年代初科学院一0九厂用我所涂层的热解石墨基座再包硅,而后在外延中应用,取得了单片基座使用寿命两年之久的好结果。但因多种原因工作未能继续。1976年,我们根