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高性能ZnO1-x-Bi2O3薄膜压敏电阻:热浸时间的影响

来源 :第十九届全国高技术陶瓷学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liumusi1314520

【作 者】

：

王杨 彭志竖 王琪 符秀丽 

【机 构】

：

中国地质大学工程技术学院,北京100083;北京邮电大学理学院,北京100084 中国地质大学工程

【出 处】

：

第十九届全国高技术陶瓷学术年会

【发表日期】

：

2016年8期

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