【摘 要】
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本文用微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD)在镀钛的单晶硅衬底上制备纳米金刚石薄膜。反应气体为CH4和H2,其流量比为CH4：H2=30：30sccm,微波功率为1800 w,反应气压为10kPa。
【机 构】
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中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥 230031 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州 450052
【出 处】
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2011中国(郑州)国际磨料磨具磨削技术发展论坛暨超硬材料论坛
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本文用微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD)在镀钛的单晶硅衬底上制备纳米金刚石薄膜。反应气体为CH4和H2,其流量比为CH4：H2=30：30sccm,微波功率为1800 w,反应气压为10kPa。利用扫描电镜(SEM)和Raman光谱分析薄膜的形貌和碳结构。结果表明纳米金刚石薄膜呈现片状的组织特征,其生长过程为：生长初期在单晶硅衬底上形成由纳米碳颗粒组成的球状碳团簇；随着时间的增加,碳团簇逐渐增大,纳米碳颗粒定向排列或自组装,最终形成片状纳米金刚石膜。
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