Ni/α-PbO2/β-PbO2薄膜的电化学制备及电氧化4-甲基吡啶的性能

• 作 者: 邵玉田 岑树琼 楼莹 李鹏 李则林 牛振江 周颖华
• 机 构: 浙江师范大学物理化学研究所,浙江省固体表面反应化学重点实验室,浙江,金华,321004
• 出 处: 2007年国际现代化工技术论坛暨第二届全国化工应用技术开发热点研讨会
• 发表日期: 2007年期
• 关键词: 多层薄膜 化学制备 电氧化 甲基吡啶 氧化性能 活性 表面形貌 中间层 电沉积 沉积层 不锈钢 织构 择优 显示 孔形 晶面 晶粒 结构 基底 厚度

本文在304型不锈钢基底上,依次电沉积Ni、α-PbO2和β-PbO2制备Ni/α-PbO2/β-PbO2多层薄膜。分析了沉积层的结构、形貌及电氧化4-甲基吡啶的性能。结果表明，活性β-PbO2层的晶粒织构、表面形貌和电氧化性能都随不同中间层而改变。当Ni、α-PbO2和β-PbO2层的厚度分别为3、30、10 μm时,显示最好的电氧化4-甲基吡啶性能,此时活性β-PbO2层呈(200)晶面择优和多棱角的多孔形貌。