斜柱状Cu雕塑薄膜的表面形貌分析

• 作 者: 林恩宇 梁景舒 陈书汉 江绍基
• 机 构: 中山大学光电材料与技术国家重点实验室,广东 广州 510275
• 出 处: 中国物理学会2012年秋季学术会议
• 发表日期: 2012年期
• 关键词: 柱状 雕塑薄膜 表面 跳跃扩散 动力学蒙特卡罗方法 三维仿真模型 空位 阴影效应

本文采用动力学蒙特卡罗方法,在Cu(100)基底上建立Cu雕塑薄膜生长的三维仿真模型.模型中考虑细致的粒子扩散行为,包括层间扩散和层内扩散,其中层间扩散分为下层最近邻空位的直接扩散、下层扭折空位的跳跃扩散、下层台阶空位的跳跃扩散并设置相对应的ES势垒值,同时考虑大角度倾斜沉积导致的阴影效应和允许悬垂粒子的存在.