【摘 要】
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利用飞行时间谱仪(TOF)技术测量了1～ 5MeV Si离子轰击SiO产生的Si能谱和溅射产额.发现在1～2MeV时SiO的溅射过程可以利用核溅射理论来较好的解释;当入射离子能量高于4MeV时电子
【机 构】
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北京大学重离子物理所(北京),日本京都大学核工程系
【出 处】
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'2001全国荷电粒子源粒子束学术会议
论文部分内容阅读
利用飞行时间谱仪(TOF)技术测量了1～ 5MeV Si离子轰击SiO<,2>产生的Si<+>能谱和溅射产额.发现在1～2MeV时SiO<,2>的溅射过程可以利用核溅射理论来较好的解释;当入射离子能量高于4MeV时电子溅射机制开始占主要地位,测量结果比较符合热峰模型的预言.在中间能量区域,两种机制的作用都比较明显.通过对实验结果的分析,得到了描述不同能量重离子溅射SiO<,2>的普适溅射产额公式.
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