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采用化学溶液沉积法在Pt／Ti／SiO2／Si基底上制备了钕锆共掺杂钛酸铋Bi3.15Nd0.85ZrxTi3-xO12(BNTZ)无铅铁电薄膜。用X射线衍射仪对BNTZ薄膜的晶体结构进行了分析，用RT Precision Workstation铁电分析仪对BNTZ薄膜的电滞回线和漏电流特性进行了测量分析。详细研究了锆掺杂量X对薄膜性能的影响。结果表明：适量的B位锆掺杂可以明显改善薄膜的铁电性能；当锆掺杂量x为0.1时，BNTZ薄膜具有最好的铁电性能。