【摘 要】
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研究了一种新型光流变流体的光敏过程流变性质,该新型光敏胶束体系由Gemini阳离子表面活性剂丙撑基双(十八烷基二甲基氧化铵)(18-3-18)和光敏反离子偶氮苯-4-苯甲酸(ACA)复配
【机 构】
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华东理工大学化学工程研究所流变学研究室,上海200237
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研究了一种新型光流变流体的光敏过程流变性质,该新型光敏胶束体系由Gemini阳离子表面活性剂丙撑基双(十八烷基二甲基氧化铵)(18-3-18)和光敏反离子偶氮苯-4-苯甲酸(ACA)复配而成.结果表明:在振荡模式(应变10%、频率为1Hz)下,18-3-18/ACA(7mM/9mM)胶束体系随波长为365nm紫外UV光照,黏弹性减弱,流动性增强,体系复黏度可在550s内降低了89%,证实了该体系具有明显的紫外光照变稀性质.光敏过程流变性研究为光流变流体的研究提供了新方法.
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