偏压对316L不锈钢上磁控溅射镀铝膜结构的影响研究

• 作 者: 王玉江;马欣新;唐光泽;张丽芳;
• 机 构: 哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001
• 出 处: 第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
• 发表日期: 2008年期

采用磁控溅射方法在316L不锈钢基体上沉积铝薄膜,分别采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对不同负偏压下沉积的铝膜进行表面形貌及相结构研究。实验结果表明:当基体负偏压低于120V时,Al膜在(111)面择优生长趋势随偏压的升高而减弱；当偏压超过120V并继续升高时,Al膜在(111)面择优生长趋势又得到增强。薄膜晶粒尺寸随基体负偏压的升高,呈现先减小后增加的趋势。在120V偏压下制备出晶粒细小,组织致密的铝膜。