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本文在不同的pH值条件下对Ni3[Si2O5].(OH)4纳米管进行了水热合成研究.利用X-射线衍射仪、透射电子显微镜、扫描电子显微镜和红外光谱仪等手段对合成样品的物相、结构和形貌进行了表征.结果表明,在200℃、pH值为11～13.5条件下可以合成其结构层是由Ni-OH八面体层与Si-O四面体层结合卷曲而成的Ni3[Si2O5].(OH)4纳米管.pH值的升高有利于Ni3[Si2O5].(OH)4纳米管的生长.合成的纳米管为纤蛇纹石结构相,其内外管径分别为8～15nm和25～30nm.
通过以六水氯化镍、活性Si02为原料，在200℃, pH为11-13.5的水热条件下，反应60小时合成了管状、开口的Ni3[Si205](OH)4纳米管;通过提高反应体系的pH值可以促进纳米管的晶体生长;在200℃,pH为13.5的条件下生长出结晶完好的纤蛇纹石纳米管，其外径约为25-30nm、内径约为8-15nm。