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本文采用单槽法控电位沉积技术在硅片上沉积了铜/铁纳米多层膜,测量了镀液的阴极极化曲线及电流-时间曲线,确定了沉积电位.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,X射线衍射(XRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,结果表明多层膜厚度均匀、连续且界面清晰,具有超晶格结构.
铜铁纳米多层膜电化学制备及GMR性能研究
【摘 要】
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本文采用单槽法控电位沉积技术在硅片上沉积了铜/铁纳米多层膜,测量了镀液的阴极极化曲线及电流-时间曲线,确定了沉积电位.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,X射线衍
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900
【出 处】
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第九届全国电镀与精饰学术年会
【发表日期】
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2006年期
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