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TMPCI/TiCl<,4>引发体系引发IBVE活性聚合的研究----电子给予体(ED)的作用
【机 构】
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北京化工大学材料科学与工程学院
【出 处】
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中国化学会'99高分子学术论文报告会
【发表日期】
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1999年期
其他文献
1984年—1987年,研究了更新茶树的最佳修剪高度和打顶高度。修剪采用离地面30.0、37.5、45.0cm三个高度;打顶采用离修剪面15、20、25cm三个高度。研究表明:不同修剪高度对茶