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有机二阶非线性光学材料具有无机材料无法比拟的优点，如效应大、介电常数低、光学损伤阈值高、易于分子设计和加工成型。过去十年来，在科学家的努力下，发色团的μβ值提高了近250倍，但相应高分子的电光系数只提高了几倍。因此，如何将发色团的高μβ值转化为材料大的宏观电光系数成为二阶非线性光学材料发展的最大挑战之一。本报告将详细介绍本组近几年在解决这一难题所进行的尝试及获得的研究结果，主要内容为“合适间隔基团”概念的提出、验证和运用。