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该文重点介绍中国光掩模制造与光刻技术从萌芽年代直到进入亚微米、深亚微米及纳米级超微细加工技术年代的发展历程，中国光掩模制造业的布局，对中国微电子技术和微细加工技术的贡献，与国际制版光刻技术的差距和制版光刻技术的展望。
中国光掩模制造与光刻技术现状与发展趋势
【摘 要】
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该文重点介绍中国光掩模制造与光刻技术从萌芽年代直到进入亚微米、深亚微米及纳米级超微细加工技术年代的发展历程，中国光掩模制造业的布局，对中国微电子技术和微细加工技术的
【机 构】
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科学院微电子中心(北京)
【出 处】
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第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
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1999年期
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