带隙可调TiO2-TiN复合薄膜的可见光催化性能

• 作 者: 谢拯 王炜鹏 战鹏 李正操 张政军
• 机 构: 清华大学材料科学与工程系,北京100084;第二炮兵工程大学603教研室,西安710025清华大学材料科学与工程系,北京100084
• 出 处: 2012年中国腐蚀与防护学会能源工程专业委员会学术交流会暨2012年能源材料学术交流会议
• 发表日期: 2012年7期
• 关键词: 非晶态二氧化硅 镀膜技术 氮化钛 可见光催化性能

采用射频磁控溅射方法在非晶SiO2上镀制TiN薄膜,通过在空气中、350℃下,不同退火时间(分别为15,30,45,60,75,90,105,120 min)氧化得到一系列带隙可调的TiO2-TiN复合薄膜,使用X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)表征薄膜成分与结构,使用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜形貌.薄膜结构和形貌结果表明,TiN薄膜实现光学带隙从1.68～3.23eV可调;可见光光催化实验结果表明,复合薄膜催化性能与带隙相关.