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H2O2湿法刻蚀的ZnO基薄膜的光学及表面特性分析

来源 :第13届全国发光学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kongling54321

【作 者】

：

王玉超 吴天准 陈明明 苏龙兴 张权林 袁丽芳 汤子康 

【机 构】

：

中山大学,物理科学与工程技术学院,光电材料国家重点实验室,广州 510275 香港科技大学,物理系

【出 处】

：

第13届全国发光学学术会议

【发表日期】

：

2013年12期

【关键词】

：

ZnO 湿法刻蚀 光致发光 H2O2溶液 

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