过滤电弧沉积TiN、ZrN和TiN/CrN多层纳米薄膜的性能比较

• 作 者: 李成明[1]孙晓军[2]曹尔妍[3]吕反修[1]唐伟忠[1]
• 机 构: 北京科技大学材料学院(北京)
• 出 处: 第七届全国摩擦学大会
• 发表日期: 2004年期

用过滤电弧离子镀(FAMIP)技术在高速钢基体上沉积了TiN、ZrN单层薄膜和TiN/CrN多层纳米薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜及其划痕的表面形貌;用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的相组成,结合显微探针仪、划痕试验机、金相显微镜和钻床,研究了金属陶瓷单层和多层纳米薄膜的性能并进行比较.研究结果表明:3种薄膜的临界载荷值均大于80N,多层纳米薄膜的耐磨性明显优于2种单层薄膜.