超临界反溶剂过程制备四环素纳米微粒

来源 :第六届全国超临界流体技术学术及应用研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fayeming
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
超临界反溶剂过程是近年来提出的一种制备纳微米粉体材料的新方法.本文利用连续式超临界反溶剂过程制备四环素超细微粒.实验以乙醇为有机溶剂,CO2为反溶剂,研究了操作压力、温度、浓度、喷嘴内径等操作参数对制备的四环素超细微粒形态、粒径及粒径分布的影响.研究表明:采用乙醇作为有机溶剂,实验条件为压力15MPa、温度35℃、溶液浓度5mg/mL及喷嘴内径75μm时可得到较理想的实验结果,制备出的四环素超细微粒平均直径为20-40nm.
其他文献
本文设计制备了集成平面天线的YBCO/YSZ双晶结,并采用小型脉冲管制冷机作为高温超导体的冷源,在60K的工作温度下进行了双晶结零偏置的混频研究;为了证明集成平面天线的双晶结
针对数字瞬时测频应用,采用YBCO薄膜设计制备了一组固定延时超导共面波导延迟线.给出了2~8GHz的各延迟线的延时和插入损耗测量结果.
在10×10mm×10mm×1mm的LaAlO基片上设计和制成了一种新结构的800MHz超导共面谐振器,它可以和外尺寸9mm×9mm的垫片式rf SQUID器件实现有效的耦合,对于使用超导共面谐振器的
设计和制作了一种新型的双耦合环的直接耦合HTdc SQUID结构.根据Y.Zhang在HTrf SQUID中用图形填充内孔使电感减小的原理,在直接耦合dc SQUID中,用在耦合环内孔中图形填充的方
本文采用CF气体,对YBCO超导薄膜在真空室里进行射频等离子体氟化,XPS的结果表明氟化改变了YBCO薄膜的表面价态,并通过不同的条件下YBCO的氟化得到了氟化深度与氟化条件的关系
本文报道了BiSrCaCuOI-V特性曲线的实验测量结果、相应模型及定性数值模拟结果和讨论.
会议
利用准分子脉冲激光器淀积方法制备了具有不同隔离和覆盖层的外延超导(YPr)BaCuO(YPBCO)(x=0,0.2,0.3)薄膜样品.外延隔离和覆盖层材料分别为同样具有钙钛矿结构的LaSrCuO(LSC
用超临界流体抗溶剂(SAS)法制得平均粒径小于12μm的乙基纤维素微粒.比较了溶剂-抗溶剂系统在不同临界点温度、压力下制得的微粒的大小.通过对工艺参数--温度、压力的考察,得
单晶NbN薄膜在超导电子学的研究中有着诱人的应用前景,如制作SIS法,研究Josephson隧道效应等等.本文着重讨论了利用直流磁控溅射工艺制作单晶NbN薄膜的技术,并对其超导电性做