线性区内AlGaN/AlN/GaN HFETs迁移率的理论研究

来源 :第十七届全国化合物半导体材料微波器件和光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jscumt
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  本文考虑到电场对AlGaN/AlN/GaN HFETs中二维电子气(2DEG)迁移率的影响,对低场迁移率模型进行了修正。基于quasi-2-D模型,对AlGaN/AlN/GaN HFETs的I-V特性进行了模拟计算,结果表明,使用修正后的迁移率模型计算得到的I-V特性与测试曲线拟合得较好。对线性区内2DEG电子迁移率随漏源偏压和沟道电场的变化进行了分析,发现在较高的漏源偏压和沟道电场下,应变极化梯度库仑场散射对AlGaN/AlN/GaN HFETs的电子迁移率仍起重要作用,随漏源偏压和沟道电场的增加,2DEG面密度降低,极化梯度库仑场散射增强,迁移率降低。此外,栅长不同,应变极化梯度库仑场散射的影响也不同。
其他文献
介绍了两个致力于推进网络视频监控标准化工作的国际团体组织ONVIF和PSIA的相关背景知识,分析了它们各自推出的网络视频监控的相关标准,阐述了这两个团体组织标准之间的—些相同和不同点,并在此基础上对中国网络视频监控的发展和标准化之路提出了看法。
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会议
随着GaN基HFET器件的应用逐渐向毫米波和亚毫米波推进,高寄生电阻和短沟道效应等问题日益突出。(In)AlN/GaN异质结可以在较薄势垒层厚度下实现高的2DEG浓度,可以同时兼顾低寄生电阻和较好的栅控能力,可以有效缓解以上问题,因此(In)AlN/GaN异质结材料日益成为学术界和工业界新的研究热点。  本实验室采用MOCVD技术实现了高性能(In)AlN/GaN异质结材料,并进行了器件制备和表征
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以GaN为代表的氮化物半导体由于具有宽禁带宽度、高击穿场强、强极化效应等材料特性,特别是GaN异质结构中极高密度的二维电子气特性,共同促使氮化物半导体成为制造微波毫米波功率器件和高压电力电子器件的理想技术之一。然而在氮化物半导体器件中,如何在高电压、高结温下控制高密度二维电子气的输运存在很多困难,比如二维电子密度过高、温度过高或电压过高时,很多二维电子都会从异质结界面沟道中溢出,成为三维电子,导致
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