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Nonhomogeneous Generation of Filamentary Paths in High-K Oxide Films Caused by Localized Electrical

来源 :The 23rd International Workshop on Oxide Electronics (第23届国际 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wmf_china

【作 者】

：

A.Rodriguez-Fernandez S.Monaghan J.Su(n)é P.K.Hurley X.Aymerich E.Miranda 

【机 构】

：

Escolad'Enginyeria,Universitat Autònoma de Barcelona,Cerdanyola del Valles,Spain

【出 处】

：

The 23rd International Workshop on Oxide Electronics (第23届国际

【发表日期】

：

2016年4期

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