【摘 要】
：
底栅微晶硅薄膜晶体管的有源层不仅要具有高的晶化率还应该尽量减薄非晶相的起始层.采用降低硅烷浓度的方法简便有效地减薄了起始层的厚度,得到起始层厚度小于20nm、霍耳迁移率大于5cm/V的微晶硅薄膜.以2﹪的硅烷浓度、采用四版工艺制备了底栅微晶硅TFT,对这种微晶硅TFT进行了初探.经贯通工艺的实验,获得开关比(I/I)在5个数量级以上,场效应迁移率大于1cm/V,阈值电压约为5V的初步结果.
【机 构】
：
南开大学光电子所;天津市薄膜光电子器件与技术重点实验室(天津) 天津机电职业技术学院
论文部分内容阅读
底栅微晶硅薄膜晶体管的有源层不仅要具有高的晶化率还应该尽量减薄非晶相的起始层.采用降低硅烷浓度的方法简便有效地减薄了起始层的厚度,得到起始层厚度小于20nm、霍耳迁移率大于5cm<2>/V<,-s>的微晶硅薄膜.以2﹪的硅烷浓度、采用四版工艺制备了底栅微晶硅TFT,对这种微晶硅TFT进行了初探.经贯通工艺的实验,获得开关比(I<,on>/I<,off>)在5个数量级以上,场效应迁移率大于1cm<2>/V<,-sec>,阈值电压约为5V的初步结果.
其他文献
为了适应军用装备平板显示器的需要,厚膜电致发光显示器(TDEL)被研制和发展,整个器件结构为陶瓷基板/内电极/厚膜绝缘层/发光层/薄膜绝缘层/ITO透明电极.本文给出了亮度与频率、亮度与电压的关系,并对器件的击穿和老化特性进行了简单的讨论.测试结果表明厚膜电致发光显示器件的阈值电压低于45V、发光亮度可达200cd/cm以上.
随着科技的发展、时代的进步,超纯水在平板显示业中的重要作用也日益明显,纯水水质已对最终产品质量、生产成品率及生产成本产生至关重要的影响.本文在大量实践工程技术上,总结了工业超纯水在平板显示行业中的应用及注意事项.
本文运用光学理论计算的方法,对LCD盒内几个膜层(ITO层,取向层PI,绝缘层SIO)厚度参数对LCD ITO电极底影的影响,做出定性定量的分析.
本文运用光学理论计算的方法,对LCD盒内几个膜层(ITO层,取向层PI,绝缘层SIO)厚度参数对LCD ITO电极底影的影响,做出定性定量的分析.
在PLED玻璃衬底和ITO阳极之间溅射一层光学干涉层,该光学干涉机构可以部分消去背景光的反射.这种方法不需要考虑光学干涉层和OLED或PLED材料之间功函数匹配,以及在溅射过程中对有机层的损伤等问题.制作的器件的对比度是14.7:1,进一步对器件的优化有望达到一个实用化目标.
移动产品用彩色显示器,要求在明暗两种环境下都具有高的色彩饱和度和亮度.采用颜色调整工艺制作的半反半透型彩色滤光片,通过调节透射区和反射区膜厚或者通过调节反射区颜色开孔率,很好地兼顾了反射和透射性能,解决了高亮度与高色彩饱和度的矛盾.
本文用再沉淀的方法制备了一系列尺寸的TPA-PPV纳米粒子(20-100nm),用场发射扫描电镜对粒子的尺寸和形貌进行了表征,研究了不同尺寸纳米粒子紫外-可见吸收光谱和荧光光谱,结果表明随着纳米粒子尺寸的减小,紫外-可见吸收光谱和荧光发射光谱均发生了蓝移.
本文讨论了STN-LCD结构设计参数对低阈值电压产品高温可靠性的影响.通过正交试验分析了STN-LCD结构设计参数对低阈值产品高温可靠性影响的重要性,并找出了这些结构参数的最佳设计值.从中可以看出,正交试验是改进STN-LCD结构设计的一个有效方法.
本文详述了L-P3101感光抗蚀油墨在LCD的ITO层上进行图形制造的全过程.同时对机理、工艺参数和质量保证也进行了讨论.
利用激光干涉形成的亮条纹引发预聚物/液晶的混合物相分离,相分离稳定后,干涉图样被记录在聚合物/液晶复合膜中,被称为全息聚合物分散液晶光栅.本文在对样品进行一次曝光之后,将样品绕着基板中心的法线方向转动一定的角度(如90度),再进行一次曝光,获得格子结构的聚合物/液晶二维光栅.实验结果表明,光栅中的聚合物和液晶在二维空间上呈周期分布,其衍射图样为空间点阵且衍射效率可以利用电场进行调节.